【财讯】科技日报：国产22纳米光刻机治不了咱们的“芯”病

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资料来源:科学技术日报

11月29日，中国科学院开发的“超分辨率光刻装备”通过了检查。 消息传开后，传闻说——“国产光刻机伟大突破，国产芯片白菜化迫在眉睫”“突破荷兰技术封锁，超越弯道”“我国厉害，新光刻机打破“芯片不足””……

笔者刚去中国科学院光电所旁听这次检查会，写了报道，还很了解，决不能胡说八道。

中国科学院开发的这种光刻机不能用于(如一点网络媒体所说)光刻cpu。 意味着用廉价的光源实现高分辨率，用于特殊的制造场景，很经济。

首先，光刻机不仅仅制造芯片。 如果你想在一个平面(硅晶片或任何材料)上形成复杂的图案，可以使用光刻。 如照片所示，图像被投影到感光胶片上，一部分被蚀刻。 半个多世纪前，美国人使用这个原理“打印”电路，拥有大规模的集成电路——芯片。

为了节能和省硅材料，芯片越小，光刻机就越极端。 线变细到一定程度，投影就会模糊。 为了清楚地投影，线宽必须小于光波长的一半。 最先进的光刻机是波长为13.5纳米的极紫外光源，可以刻10纳米以下的线。

但是，稳定的、大功率的极紫外线光源不太容易制造，得到了一个3000万人民币。 由于工作环境严格，要求配合的光学和机械部件极其精密，荷兰asml企业独占极紫外光雕刻机，创造了“一台卖1亿美元”的神话。

十几年前，国际上开始对表面等离子体( sp )光刻法感兴趣。 中国科学院光电所从2003年开始研究，是一支迅速取得成果的团队。 sp是光电站的科学家杨勇向笔者解释的:金属片和非金属片亲密接触，界面上有一些凌乱的电子。 光投影到金属上时，这些电子规则振荡，产生波长几十纳米的电磁波，可以用于光刻。

但是，这个电磁波很弱，所以必须靠近光致抗蚀剂才能刻。 另外，加工精度不能与asml的光刻机相比。 刻几十纳米级的芯片不能用sp光刻机。 至少现在的技术不行。

在检查会上，这个光刻设备能雕刻芯片，打破海外垄断吗？ 光电站的专家回答说，为了芯片需要克服一系列技术课题，距离还很远。

总之，中国科学院的22纳米分辨率光刻机与asml独占的光刻机是两回事，前者的弯道说是超越的，中国似乎提出竞走名将超过博尔特。

各大媒体最初报道的消息，我看到的还是有规律的。 但是，后来网络媒体在树枝上增加了叶子，得到了意想不到的东西。 有些传播者为了引人注目，赚钱，最喜欢做“你好文”和“吓尿体”。 听国产科技成果先吹大地方，驴吹马，马吹骆驼，喜欢卖骆驼价格。

这样的“科技报道”是满足虚荣心的假信息。 内行皱起眉头，避开了大吉。 难怪很多科学家害怕信息。。

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